特許
J-GLOBAL ID：200903030685453446
DLC膜の成膜方法及びそれにより製造された磁気記録媒体
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
二瓶 正敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-076684
公開番号（公開出願番号）：特開平11-256340
出願日： 1998年03月10日
公開日（公表日）： 1999年09月21日
要約：
【要約】【課題】 真空槽内で支持体上にDLC膜を成膜する場合、真空槽内の各所にDLC膜が付着堆積し、剥がれ落ちて欠陥が発生するため、たびたび槽内の真空を破って付着物のクリーニングを行う必要があり、多大な手間と時間を要しているが、真空槽内の各所に付着したDLC膜を効率良く除去する方法を提供する。【解決手段】 真空槽内を搬送される支持体1上に、保護膜としてのDLC膜3を成膜する際に、DLC膜の成膜工程の所定期間毎に、酸素プラズマにより前記真空槽内のDLC膜のみをエッチング除去する工程を含み、この酸素プラズマを発生させる際の、酸素ガス圧を800mTorr以下とする。
請求項（抜粋）：
真空槽内を搬送される支持体上にDLC膜を成膜する方法において、前記DLC膜の成膜工程の所定期間毎に、酸素プラズマにより前記真空槽内のDLC膜のみをエッチング除去する工程を含み、この酸素プラズマを発生させる際の、酸素ガス圧が800mTorr以下であることを特徴とするDLC膜の成膜方法。
IPC (4件)：
C23C 16/44
, C23C 16/26
, G11B 5/84
, C23F 4/00
C23C 16/44 J
, C23C 16/26
, G11B 5/84 A
, C23F 4/00 E
