特許
J-GLOBAL ID：200903030686621180
真空処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-110506
公開番号（公開出願番号）：特開平5-304112
出願日： 1992年04月28日
公開日（公表日）： 1993年11月16日
要約：
【要約】【目的】 装置の大形化および製造コストの増大を招くことなく、また、ゴミの発生の少なく、スループットの向上を図ることのできる真空処理装置を提供する。【構成】 第1ロードロック室1と第2ロードロック室2が連設されており、第1ロードロック室1の周囲には、3つの真空処理室3a、3b、3cが配設されている。第1ロードロック室1内には、基板搬送アーム7と、複数枚のLCD基板を保持可能に構成されたバッファ機構8が設けられている。これらの基板搬送アーム7とバッファ機構8は、回転自在に構成された回転台9上に設けられている。
請求項（抜粋）：
減圧雰囲気下で被処理物に所定の処理を施す複数の真空処理室と、これらの真空処理室の間に設けられた予備真空室と、この予備真空室内に設けられ、前記被処理物を前記真空処理室に搬入・搬出する搬送機構と、前記予備真空室内に設けられ、前記被処理物を保持可能に構成されたバッファ機構とを具備したことを特徴とする真空処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/302
, G02F 1/136 500
, H01L 21/68
