特許

J-GLOBAL ID：200903030745375571

複合構造物の形成方法

発明者： 鳩野 広典 ,  清原 正勝 ,  伊藤 朋和
出願人/特許権者： 東陶機器株式会社
代理人 (1件)： 小山 有
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-254025
公開番号（公開出願番号）：特開2004-091854
出願日： 2002年08月30日
公開日（公表日）： 2004年03月25日
要約：

【課題】基材上にエアロゾルデポジション法によりエッジ部(側壁部)がシャープに切り立った脆性材料構造物を形成する。【解決手段】マスク109が貼着された基材108にノズル106から脆性材料微粒子を高速で衝突せしめると、マスク109の開口109aの部分にのみ脆性材料微粒子が堆積した脆性材料構造物111が形成される。そこで、マスク109を除去することで、基材108と脆性材料構造物111からなる複合構造物が得られる。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

基材の表面に脆性材料微粒子のエアロゾルを衝突させ、衝突による衝撃で前記脆性材料微粒子を変形または破砕し、微粒子同士を再結合せしめて基材の表面に脆性材料構造物を形成するエアロゾルデポジション法による複合構造物形成方法において、前記基材の表面には開口を有するマスクを密着せしめ、当該開口から露出する基材表面のみに脆性材料構造物を形成するとともに、前記マスクの材料としてエアロゾルデポジション法による被膜形成がなされないものを選定したことを特徴とする複合構造物の形成方法。

IPC (1件)：

C23C24/04

FI (1件)：

C23C24/04

Fターム (12件)：

4K044AA12 ,  4K044AA16 ,  4K044AB02 ,  4K044BA11 ,  4K044BA13 ,  4K044BB01 ,  4K044BB10 ,  4K044BB11 ,  4K044CA23 ,  4K044CA29 ,  4K044CA51 ,  4K044CA53

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 厚膜パターン形成方法及び該方法による厚膜パターン
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-078666   出願人：大日本印刷株式会社