特許

J-GLOBAL ID：200903030747930190

洗浄方法および洗浄装置

発明者： 齋藤 誠司 ,  福井 博之
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-156910
公開番号（公開出願番号）：特開平11-008214
出願日： 1997年06月13日
公開日（公表日）： 1999年01月12日
要約：

【要約】【課題】 洗浄工程における被洗浄物表面のパーティクル除去効果の向上を図る。【解決手段】 純水中にガスを溶存させたものを洗浄水として用い、前記洗浄水にメガソニック照射を行いながら、前記洗浄水中に被洗浄物を浸漬させることで、被洗浄物表面の洗浄を行う。前記純水中に溶存させた前記ガスの溶存濃度を、少なくとも洗浄水に前記メガソニック照射を行った際に、水面にさざ波を発生させない濃度とする。

請求項（抜粋）：

純水にガスを溶存させたものを洗浄水として用い、前記洗浄水中に被洗浄物を浸漬させるとともに、前記洗浄水にメガソニック照射を行うことを特徴とする洗浄方法。

IPC (5件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/08 ,  B08B 3/10 ,  B08B 3/12

FI (5件)：

H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 N ,  B08B 3/08 Z ,  B08B 3/10 Z ,  B08B 3/12 A

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 特開平2-091922