特許

J-GLOBAL ID：200903030750552376

電極接触評価およびアブレーションシステム、並びに使用方法

発明者： ファルウェル ガリー エス.
出願人/特許権者： シー・アール・バード・インコーポレーテッド
代理人 (1件)： 藤本 英介
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-526113
公開番号（公開出願番号）：特表2003-510125
出願日： 2000年09月14日
公開日（公表日）： 2003年03月18日
要約：

【要約】本発明のシステムおよび方法は、身体組織とカテーテル上に支持された一つまたはそれ以上の電極との間の接触の量または質を評価する。さらなる観点において、本発明はアブレーション手法中、特定電極または他の電極から引き出された組織接触データに応答してカテーテル上にその特定電極に供給される電力を制御するための方法に関する。本発明はアブレーション手法中に引き出されるパルス無線周波数(RF)エネルギーのパルス数に関する情報をモニタリングして、処理する。組織接触の量または質は、所定間隔中に特定電極に供給されたパルス数と、複数の電極の少なくとも一つの他の電極に供給されたパルス数またはアブレーション手法中に引き出されたデータとを比較することによって評価される。システムおよび方法は、種々の電極中の組織接触の評価の表示を提供するとともに、組織接触の評価に応答してパルスRFエネルギーの分布を自動的に制御することもできる。

請求項（抜粋）：

(a)カテーテルの長さに沿って支持された複数の電極と、少なくとも一つの温度センサーを有するカテーテルを備えること、(b)無線周波数(RF)エネルギー源からパルスRFエネルギーを前記複数の電極に供給すること、(c)前記複数の電極の各々に対して、ある時間の間隔中に電極に送られるパルス数をモニタリングすること、及び(d)前記間隔中に一つの特定電極に送られるパルス数を前記複数の電極の少なくとも一つの他の電極に送られるパルス数と比較することによって組織接触の量を測定すること、からなる工程を含むカテーテルのアブレーション手法をモニタリングする方法。

Fターム (4件)：

4C060KK09 ,  4C060KK13 ,  4C060KK23 ,  4C060KK30