特許

J-GLOBAL ID：200903030751459485

電子線露光装置及び電子線露光方法

発明者： 品田 博之 ,  黒田 勝広 ,  横川 賢悦 ,  佐々木 進 ,  会田 敏之 ,  矢口 富雄
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-222518
公開番号（公開出願番号）：特開平6-236840
出願日： 1992年08月21日
公開日（公表日）： 1994年08月23日
要約：

【要約】【目的】スループットが高く、しかも個々のパターンに対応したマスク作製の必要のない電子線露光装置を提供すること。【構成】半導体電子放出材1を格子状に区切った面状の電子放出源を、それぞれの画素ごとにオン/オフできるようにし、これに集積回路等のパターン信号を送ることで所望のパターンの電子線8を自由に作ることができる。また、面状の電子放出源として光電子カソードを用い、このカソードに照射する光を液晶等の電気的に制御可能なシャッタにより任意の形状に成型しても所望のパターンの電子線を得ることができる。

請求項（抜粋）：

複数のセルがマトリクス状に配列され、それぞれが独立して動作する面状の電子放出源と、パターンデータからパターン信号を発生し、該電子放出源に出力するためのパターン発生器と、該電子放出源から放出された所望のパターンの電子ビームを被露光面に投射するための電子光学系とよりなることを特徴とする電子線露光装置。

FI (2件)：

H01L 21/30 541 Q ,  H01L 21/30 541 B

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭59-143326
  
• 特開昭58-028837
  
• 特開昭52-051873
  
• 特開昭52-051873