特許

J-GLOBAL ID：200903030765113425

光ディスク及びマスタ-ディスク製造方法及び装置

発明者： ダエ・ヨン・キム
出願人/特許権者： エルジー電子株式会社
代理人 (1件)： 山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-097416
公開番号（公開出願番号）：特開平11-328744
出願日： 1999年04月05日
公開日（公表日）： 1999年11月30日
要約：

【要約】【課題】 本発明は記録密度をより高めるのに適合した光ディスクを提供すること。【解決手段】 本発明は、ピットの幅を広くし、長さが短くても確実にデータを記録することができ、かつエラーなく再生できるようにした。

請求項（抜粋）：

基板にフォトレジスト膜を成膜する段階と、前記フォトレジスト膜を少なくとも2回以上反復露光して前記基板上に一つのトラックを形成する段階とを含むことを特徴とするマスターディスクの製造方法。

IPC (2件)：

G11B 7/26 ,  G11B 7/24 531

FI (2件)：

G11B 7/26 ,  G11B 7/24 531 Z