特許

J-GLOBAL ID：200903030767567822

レンズの製造方法

発明者： 鈴木 慶一
出願人/特許権者： セイコーエプソン株式会社
代理人 (2件)： 上柳 雅誉 ,  宮坂 一彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-206049
公開番号（公開出願番号）：特開2008-032990
出願日： 2006年07月28日
公開日（公表日）： 2008年02月14日
要約：

【課題】防汚層の蒸着ムラを抑制できるレンズの製造方法を提供する。【解決手段】レンズ基材上に直にまたは少なくとも1つの層を挟んで、複数層であって、且つ最表層がSiO2層である反射防止層を形成する工程と、反射防止層の表面に蒸着により防汚層を形成する工程とを有する。反射防止層を形成する工程は、蒸着速度Vdが下記(1)式を満たすように最表層を蒸着により成膜する工程を含む。 2.0nm/秒≦Vd≦4.2nm/秒 (1)【選択図】図3

請求項（抜粋）：

レンズ基材上に直にまたは少なくとも1つの層を挟んで、複数層であって、且つ最表層がSiO2層である反射防止層を形成する工程と、 前記反射防止層の表面に蒸着により防汚層を形成する工程とを有するレンズの製造方法であって、 前記反射防止層を形成する工程は、蒸着速度Vdが下記(1)式を満たすように前記最表層であるSiO2層を蒸着により成膜する工程を含む、レンズの製造方法。 2.0nm/秒≦Vd≦4.2nm/秒 (1)

IPC (3件)：

G02B 1/11 ,  G02C 7/02 ,  B32B 9/00

FI (3件)：

G02B1/10 A ,  G02C7/02 ,  B32B9/00 A

Fターム (20件)：

2K009AA04 ,  2K009CC03 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009DD03 ,  2K009EE05 ,  4F100AA20C ,  4F100AA27 ,  4F100AK17D ,  4F100AK52D ,  4F100AR00A ,  4F100AR00B ,  4F100AT00A ,  4F100BA04 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10D ,  4F100EH66D ,  4F100JL06D ,  4F100JN30C ,  4F100YY00C

引用特許：

出願人引用 (2件)

• 防汚性レンズ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-066250   出願人：住友化学工業株式会社
• 防汚性表面層を有するレンズ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-208739   出願人：信越化学工業株式会社