特許
J-GLOBAL ID：200903030768991636
投影光学系の検査方法及び検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-275274
公開番号（公開出願番号）：特開平5-114542
出願日： 1991年10月23日
公開日（公表日）： 1993年05月07日
要約：
【要約】【目的】 走査型電子顕微鏡を用いることなく、高速、且つ高精度に投影光学系の収差量を計測する。【構成】 所定の方向にほぼ平行に延びた2つのエッジ(A,B)を有するパターン(7a)を基板表面の複数の異なる位置の夫々に露光量を変えて露光する。基板を現像して、基板表面に1つのエッジの像が出現したときの露光量と、もう一方のエッジの像が出現したときの露光量とを求め、これら露光量の比から投影光学系の非対称収差量を求める。
請求項（抜粋）：
照明光学系からの光束で照明されたマスク上のパターンの像を基板表面のレジスト層に結像投影するための投影光学系を検査する方法において、所定の方向にほぼ平行に延びた第1のエッジと第2のエッジとを有するパターンを前記基板表面の複数の異なる位置の夫々に露光量を変えて順次露光する工程と;該露光された基板を現像する工程と;該現像工程によって前記基板表面の夫々の位置に出現するレジスト像のうち前記第1、及び第2のエッジに対応するレジスト像の有無を検出する工程と;前記第1のエッジに対応するレジスト像が出現したときの露光量と、前記第2のエッジに対応するレジスト像が出現したときの露光量との比から前記投影光学系の非対称収差量を求める工程とを含むことを特徴とする投影光学系の検査方法。
FI (2件)：
H01L 21/30 311 L
, H01L 21/30 301 G
