パターン形成方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-108574
公開番号（公開出願番号）：特開平10-301293
出願日： 1997年04月25日
公開日（公表日）： 1998年11月13日
要約：

【要約】【課題】劣化した光形状を回復して良好な微細パターン形成するパターン形成方法を提供する。【解決手段】薄膜が厚さ方向に不均一な濃度分布を有し、且つ、露光の光の波長において光退色する感光性組成物を用いる。

請求項（抜粋）：

感光性組成物からなる薄膜が厚さ方向に不均一な濃度分布を有し、且つ、露光の光の波長において光退色することにより露光の光強度を制御することを特徴とするパターン形成方法。

IPC (3件)：

G03F 7/095 501 , G03F 7/039 601 , H01L 21/027

FI (4件)：

G03F 7/095 501 , G03F 7/039 601 , H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 514 C

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