特許

J-GLOBAL ID：200903030770691151

レジスト現像装置およびレジスト現像方法

発明者： 江藤 英雄
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-264417
公開番号（公開出願番号）：特開平11-102855
出願日： 1997年09月29日
公開日（公表日）： 1999年04月13日
要約：

【要約】【課題】 微細なパターンにおいても、良好な寸法精度を得ることが可能なレジスト現像装置およびレジスト現像方法を提供すること。【解決手段】 基板表面に形成されたレジストを所定パターンに加工するレジスト現像装置10において、上記基板16を保持する第1の電極14を有する保持台と、上記第1の電極14と近接対向配置された第2の電極17と、上記第1の電極14もしくは第2の電極17の少なくとも一方と電気的に接続される交流電源15と、上記基板16と第2の電極17の間に処理液23を供給する処理液供給手段19と、を具備することを特徴としている。

請求項（抜粋）：

基板表面に形成されたレジストを所定パターンに加工するレジスト現像装置において、上記基板を保持する第1の電極を有する保持台と、上記第1の電極と近接対向配置された第2の電極と、上記第1の電極もしくは第2の電極の少なくとも一方と電気的に接続される交流電源と、上記基板と第2の電極の間に処理液を供給する処理液供給手段と、を具備することを特徴とするレジスト現像装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/30 501

FI (3件)：

H01L 21/30 569 C ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 569 F