可変マスク機構のマスク位置決め方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中島淳 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-212644
公開番号（公開出願番号）：特開平8-076277
出願日： 1994年09月06日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：

【要約】【目的】可変マスク機構の製造コストを低減しつつ、ネガフィルム上の画像コマサイズの変更に対応して簡易に開口量を変更する。【構成】ネガキャリアに開口部による開口量を調節するマスク片122、124が配置される。モータ130が回転すると、マスク片122、124が開閉動する。コントローラがモータ130の回転を制御して、マスク片122、124を、ネガフィルム上の画像の濃度を測定可能な範囲に位置合わせした状態で、濃度を測定する。この後、このマスク片122、124を移動して、画像焼付位置上に位置する印画紙に焼付露光可能な範囲に位置合わせする。これにより、開口部の開口量をマスク片122、124が実質的に変え、印画紙にネガフィルム上の画像が焼付露光される。

請求項（抜粋）：

ネガフィルム上の画像を感光材料に焼付露光する際に、感光材料を焼付露光する光線を部分的に遮るマスクを移動して、この光線が通過する開口部の開口量を変更し得る可変マスク機構を用いた可変マスク機構のマスク位置決め方法であって、前記マスクをネガフィルム上の画像の濃度を測定可能な範囲に位置合わせした状態で、濃度測定器により画像の濃度を測定した後、前記マスクをネガフィルム上の画像を焼付露光可能な範囲に移動して前記開口部の開口量を変え、前記濃度測定器側への光路と異なる光路上に配置された感光材料を焼付露光する、ことを特徴とする可変マスク機構のマスク位置決め方法。

引用特許：

審査官引用 (3件)

写真プリンタ
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-153859 出願人：富士写真フイルム株式会社
特開2050-151834
特開昭61-223731

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