特許
J-GLOBAL ID：200903030779366989
基板洗浄方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岸本 瑛之助 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-165387
公開番号（公開出願番号）：特開平5-013398
出願日： 1991年07月05日
公開日（公表日）： 1993年01月22日
要約：
【要約】【目的】 有機汚染物洗浄工程を設ける必要がないので、装置の製作コストが安くでき、かつ装置の運転監視および維持管理が容易であり、しかも温度が約20〜30°Cの下で行なわれる従来のオゾンによる有機汚染物の洗浄に比べて、短時間に多くの有機汚染物を分解することができる基板洗浄方法を提供する。【構成】 多重効用純水製造装置(4) で得られた清浄な水蒸気にオゾンを注入して純水蒸気とオゾンとの混合蒸気を作り、この混合蒸気を蒸気洗浄槽(1) 内のスプレーノズル(16)から噴射させて、基板(5) に付着した汚染物を洗い流すとともに、膜状有機汚染物をオゾンにより分解させた後、超純水洗浄槽(2) において超純水で洗浄することを特徴とする。
請求項（抜粋）：
純水蒸気とオゾンとの混合蒸気をスプレーノズルから噴射させて洗浄した後、超純水で洗浄することを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (4件)：
H01L 21/304 341
, B08B 3/08
, G02F 1/13 101
, H05K 3/26
