特許

J-GLOBAL ID：200903030800293199

洗浄方法および洗浄スプレー装置

発明者： 白井 道雄 ,  渡辺 正樹
出願人/特許権者： オリンパス光学工業株式会社
代理人 (1件)： 奈良 武
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-107345
公開番号（公開出願番号）：特開平6-292868
出願日： 1993年04月09日
公開日（公表日）： 1994年10月21日
要約：

【要約】【目的】 噴霧してもオゾン層破壊の危険がなく、しかも洗浄液の成分を残すことなく洗浄できるスプレー式の洗浄装置とする。【構成】 ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサンの内の1種と低級アルコールとの混合物により洗浄液とし、この洗浄液を噴霧用ガスとしての炭酸ガスと共に、スプレー缶内に封入する。

請求項（抜粋）：

ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサンまたはオクタメチルシクロテトラシロキサンの中から選ばれた少なくとも1種のシロキサンと低級アルコールとの混合物からなる洗浄液を炭酸ガスを噴霧用ガスとして被洗浄物に噴霧することを特徴とする洗浄方法。