特許
J-GLOBAL ID：200903030811878946
走査リングフイールド縮小投影装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡部 正夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-263828
公開番号（公開出願番号）：特開平5-036588
出願日： 1991年10月11日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：
【要約】【目的】 リソグラフィに用いられる縮小投影装置でウェーハ上の像の収差をなくすとともに所望の加工スペースを得ることを目的とする。【構成】 300Åから40Åまでの波長範囲内のX線放射線を用いて最大0.4μmまでの設計単位につくられるデバイスを生産するためのリソグラフィパターニングを行う走査リングフィールド縮小投影装置である。この装置の光学構成は全-反射形であり、第1の凹面ミラー25、第2の凸面ミラー26及び第3の凹面ミラーミラー30からなる三面構造を含み、第2と第3のミラー26、30の間に第4の凹面折り曲げ用ミラー29を具備する。
請求項（抜粋）：
300Åから40Åまでの波長範囲内のX線放射線を用いて最大0.4μmまでの設計単位につくられるデバイスを生産するためのデバイス製造中に弧状スリット内に実質的に含まれた像領域を走査することによりリソグラフィパターニングを行う装置であって、この装置の光学構成は全-反射形であり、ブラッグ反射体(DBR)を備え、第1、第2及び第3の光学要素からなる三面構造を含み、前記スリットはX線放射線源の効率的な使用を可能とするような光軸からの半径である領域を含んで全ての収差を十分に小さくし前記設計単位でのパターニングを可能とする走査リングフィールド縮小投影装置において、この装置は前記第2の光学要素と前記第3の光学要素との間に第4の光学要素を具備し、この第4の光学要素は非平面であるとともに、(1)接近可能な絞りを設けること、(2)前記光学構成の物体と反対側に像を位置させること、(3)前記デバイスが前記像の表面に一致する表面に配置されたときに前記デバイスの都合良い製造を可能とするために所望の加工空間を設けること、及び(4)前記領域の半径依存性を減少させることの4つの機能を供し、これにより走査方向において前記三面構造に可能なものよりも大きい寸法を持つ領域を提供し、前記像において収差がなくかつ所望の加工空間を提供することを特徴とする走査リングフィールド縮小投影装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
