特許
J-GLOBAL ID：200903030813613060
ポリッシャーとこれを用いた光学部品の研磨方法および研磨装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
上柳 雅誉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-178355
公開番号（公開出願番号）：特開2001-353650
出願日： 2000年06月14日
公開日（公表日）： 2001年12月25日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】光学部品の平滑化および/または鏡面化において、低コストで効率良く平滑化および/または鏡面化が可能なポリッシャーと、これを用いた研磨装置、研磨方法を提供する。【解決手段】光学部品を平滑化および鏡面化するために中空柱形状弾性体ポリッシャー1と、ポリッシャー1内の圧力を調整する手段と、ポリッシャー1の形状を変形させる手段と、ポリッシャー1を回転する手段と、ワークを保持する手段と、前記ワークを回転する手段と、前記ワークをポリッシャー1に対して揺動する手段と、前記ポリッシャー1と前記ワークとの間にテープ状あるいはベルト状の研磨部材3を供給する手段と、研磨圧力加圧手段と、液体および/または研磨剤を供給する手段15とを具備する光学部品の研磨装置。
請求項（抜粋）：
中空で柱形状の弾性体からなることを特徴とするポリッシャー。
IPC (2件)：
FI (2件)：
B24B 13/01
, B24B 13/02 C
3C049AA09
, 3C049AB01
, 3C049AC04
, 3C049CA01
