特許
J-GLOBAL ID:200903030816632139

X線分析装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 井桁 貞一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-142280
公開番号(公開出願番号):特開平5-332956
出願日: 1992年06月03日
公開日(公表日): 1993年12月17日
要約:
【要約】【目的】 試料表面に小角度でX線を入射するX線分析装置に関し,試料のアオリ角を精密に調整することを目的とする。【構成】 被測定面1aにスリット状断面の入射X線ビーム3を照射するX線分析装置において,入射X線ビーム3を画定する開口8aを有するスリット8と,その前方中心線上に着脱自在に設けられた微小X線源10と,2のスリット状開口9aを有し,微小X線源10からの発散X線を対称な2方向に出射する調整用X線ビーム14a,14bとするビームスプリッタ9と,試料1を被測定面1aに垂直に移動する手段,被測定面1aの垂線及び入射X線ビーム3と直交するθ回転軸2a廻りの回転手段,及び被測定面1aの垂線及びθ回転軸2aと直交するアオリ回転軸2b廻りの回転手段とを有する試料台2と,被測定面1aから反射又は回折された調整用X線ビーム14a,14bを検出し,それらの強度のθ回転依存性が一致するようにアオリ回転を調整する手段とを有して構成する。
請求項(抜粋):
平面の被測定面(1a)を有する試料(1)の該被測定面(1a)内の一部領域に,入射方向と直交し該被測定面(1a)内に含まれる方位を長辺方向とするスリット形状断面を有する入射X線ビーム(3)を照射して,該試料(1)表面から放出されるX線又は電子(5)を測定用検出器(4)により観測するX線分析装置において,該X線分析装置の前方から入射するX線(13)から該入射X線ビーム(3)を取り出すための該入射X線ビーム(3)の断面形状を画定する開口(8a)を有するスリット(8)と,該スリット(8)より前方の該入射X線ビーム(3)の中心線延長上に着脱自在に設けられ発散X線を発生する微小X線源(10)と,該スリット(8)と平行な平面内にあり,該スリット(8)の開口(8a)の長辺と直交する2つのスリット状開口(9a)を有し,該微小X線源(10)から発生する発散X線を該スリット(8)及び該2つのスリット状開口(9a)を通すことにより,該発散X線の一部を該入射X線ビーム(3)の中心線を含みかつ該2つのスリット状開口(9a)と平行な平面を対称面とする対称な2方向に出射する2本の調整用X線ビーム(14a,14b)として取り出すための着脱自在に設けられたビームスプリッタと(9),該試料(1)を保持し,該試料(1)を該被測定面(1a)の垂線方向に移動する手段,該被測定面(1a)の垂線と直交しかつ該入射X線ビーム(3)の入射方向と直交するθ回転軸(2a)の廻りに回転する手段,及び該被測定面(1a)の垂線と直交しかつ該θ回転軸(2a)と直交するアオリ回転軸(2b)の廻りに回転する手段とを有する試料台(2)と,該スリット(8)及び該微小X線源(10)の位置を調整するために該スリット(8)及び該ビームスプリッタ(9)を通過した該入射X線ビーム(3)及び該発散X線を検出するために着脱自在に設けられた第一のX線検出器(6)と,該被測定面(1a)に入射した後,該被測定面(1a)から反射又は回折された2本の該調整用X線ビーム(14a,14b)をそれぞれ検出する第二及び第三のX線検出器(7a,7b)と,該第二及び第三のX線検出器(7a,7b)が検出するX線強度の該試料(1)のθ回転軸(2a)廻りの回転角依存性を観測し,該第二及び第三のX線検出器(7a,7b)が検出するX線強度の該試料(1)のθ回転軸(2a)廻りの回転角依存性が同一になるように該試料(1)をアオリ回転軸(2b)廻りに回転する手段とを有することを特徴とするX線分析装置。

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