特許
J-GLOBAL ID:200903030826142520

疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小島 隆司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-120864
公開番号(公開出願番号):特開2001-302228
出願日: 2000年04月21日
公開日(公表日): 2001年10月31日
要約:
【要約】【解決手段】 シラン化合物の熱分解によって得られた二酸化珪素微粉末を酸素濃度が3容量%以下の流動槽内で疎水化処理剤で処理することを特徴とする疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法。【効果】 本発明によれば、熱分解法シリカ微粉末を効率よく疎水化処理することができる。
請求項(抜粋):
シラン化合物の熱分解によって得られた二酸化珪素微粉末を酸素濃度が3容量%以下の流動槽内で疎水化処理剤で処理することを特徴とする疎水性二酸化珪素微粉末の製造方法。
Fターム (8件):
4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072GG03 ,  4G072HH04 ,  4G072JJ47 ,  4G072TT30 ,  4G072UU09 ,  4G072UU30
引用特許:
審査官引用 (3件)

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