特許
J-GLOBAL ID：200903030826365805
配線パターン検査装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-014599
公開番号（公開出願番号）：特開平5-209843
出願日： 1992年01月30日
公開日（公表日）： 1993年08月20日
要約：
【要約】【目的】 プリント基板やホトマスク等における配線パターンの不良を検査する配線パターン検査装置に関するもので、欠陥の発生頻度を抑制するとともに最終的に目視による確認作業の効率化を図ることを目的とする。【構成】 プリント基板101上に形成された配線パターンの線幅を計測し、欠陥検出手段106により1つ以上の任意の閾値と比較し線幅異常を画素単位で検出し、検出された連結した線幅異常画素を統合処理手段107で孤立点画素になるまで縮退する統合処理を施すことにより、連結した線幅異常画素を1つにハードウエアでまとめる。
請求項（抜粋）：
プリント基板上に形成された配線パターンを光電変換する画像入力手段と、前記画像入力手段からの濃淡画像を2値画像に変換する2値化手段と、配線パターンの線幅を計測し1つ以上の任意の閾値と比較し線幅異常を検出する欠陥抽出手段と、前記欠陥抽出手段から検出された連結した線幅異常画素を孤立点画素になるまで縮退する統合処理手段とを具備した配線パターン検査装置。
IPC (4件)：
G01N 21/88
, G01B 11/24
, G06F 15/62 405
, H05K 13/08
