特許

J-GLOBAL ID：200903030828422954

吸着システム

発明者： 塩川 武次 ,  三川 光弥 ,  松本 隆
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 春日 讓
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-171145
公開番号（公開出願番号）：特開2001-347433
出願日： 2000年06月07日
公開日（公表日）： 2001年12月18日
要約：

【要約】【課題】基板等の固定性を向上して、加工精度の向上する吸着システムを提供することにある。【解決手段】吸着部品20,30は、被加工材70と接触する部分に吸引パス24,34を有している。吸引パス24,34と被加工材70が接触した状態で、吸引部62を動作させて、吸引パス24,34から吸引することにより、被加工材70を吸着する。吸着部品20,30は、吸引パス24,34の外周であって、被加工材70と接触する位置に形成された通気パス26,36を備えている。通気パス26,36には、エアーが供給される。

請求項（抜粋）：

被加工材と接触する部分に吸引パスを有し、この吸引パスと被加工材が接触した状態で、吸引パスから吸引することにより、被加工材を吸着する吸着部品を有する吸着システムにおいて、上記吸着部品は、上記吸引パスの外周であって、上記被加工材と接触する位置に形成された通気パスを備え、この通気パスにエアーを供給することを特徴とする吸着システム。

IPC (3件)：

B23Q 3/08 ,  B23K 26/10 ,  B23K101:42

FI (3件)：

B23Q 3/08 A ,  B23K 26/10 ,  B23K101:42

Fターム (4件)：

3C016DA03 ,  4E068CE09 ,  4E068CH05 ,  4E068DA11