特許

J-GLOBAL ID：200903030830926862

CVD法における原料ガス供給方法および装置

発明者： 山岸 裕幸
出願人/特許権者： 株式会社フジクラ
代理人 (1件)： 増田 竹夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-284746
公開番号（公開出願番号）：特開2003-089878
出願日： 2001年09月19日
公開日（公表日）： 2003年03月28日
要約：

【要約】【課題】 CVD法における原料ガス供給方法と装置。【解決手段】 製品母材となるべき石英管の一端から、四塩化ケイ素、四塩化ゲルマニウム等の第一原料ガスと、ハロゲン化アルミニウム、ハロゲン化ジルコニウム等の第二原料ガスを送給する供給方法において、両原料ガスを共に所望の温度に加熱保温して送給し、石英管内においてこれら両原料ガスを一様に混合させるようにしたことを特徴とするCVD法における原料ガス供給方法およびこれに用いる装置である。

請求項（抜粋）：

製品母材となるべき石英管(1)の一端から、四塩化ケイ素、四塩化ゲルマニウム等の第一原料ガスと、ハロゲン化アルミニウム、ハロゲン化ジルコニウム等の第二原料ガスを送給する供給方法において、前記両原料ガスを共に所望の温度に加熱保温して送給し、前記石英管(1)内においてこれら両原料ガスを一様に混合させるようにしたことを特徴とするCVD法における原料ガス供給方法。

IPC (2件)：

C23C 16/455 ,  G02B 6/00 356

FI (2件)：

C23C 16/455 ,  G02B 6/00 356 A

Fターム (14件)：

4K030AA02 ,  4K030AA03 ,  4K030AA06 ,  4K030AA20 ,  4K030BA02 ,  4K030BA09 ,  4K030BA22 ,  4K030BA44 ,  4K030CA05 ,  4K030CA15 ,  4K030EA05 ,  4K030FA10 ,  4K030KA25 ,  4K030LA11