特許
J-GLOBAL ID：200903030832974988
蛍光体膜パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
粟野 重孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-144178
公開番号（公開出願番号）：特開平8-007762
出願日： 1994年06月27日
公開日（公表日）： 1996年01月12日
要約：
【要約】【目的】 蛍光体膜をその下地電極に損傷を与えずに所定厚さにパターン形成できるようにする。【構成】 蛍光体を含有した第1ペースト膜12を背面基板8上に塗布形成する工程と、第1ペースト膜12の一部分に重なる第2ペースト膜13を塗布形成する工程と、第1ペースト膜12と第2ペースト膜13とを熱反応させて水溶性物質14を生成させる工程と、水溶性物質14を水洗除去して蛍光体膜パターンを生成させる工程とを備える。
請求項（抜粋）：
蛍光体を含有した第1ペースト膜を基板上に塗布形成する工程と、第1ペースト膜の一部分に重なる第2ペースト膜を塗布形成する工程と、第1ペースト膜と第2ペースト膜とを熱反応させて水溶性物質を生成させる工程と、水溶性物質を水洗除去して蛍光体膜パターンを生成させる工程とを備えてなることを特徴とする蛍光体膜パターン形成方法。
IPC (2件)：
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