薄膜形成用マスク

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-070758
公開番号（公開出願番号）：特開平7-278784
出願日： 1994年04月08日
公開日（公表日）： 1995年10月24日
要約：

【要約】【目的】スパッタ蒸着に使用するマスクの洗浄間隔(連続するスパッタ蒸着使用回数)が長く且つマスクの洗浄間隔のばらつきが小さいマスクを提供することにある。【構成】飛散源からの飛散粒子によりマスクを介して素体表面に所定パターンの被覆を形成するための薄膜形成用マスクにおいて、前記薄膜形成用マスクの表面を粗くしたことを特徴とする。また、マスクの表面の表面粗さ(Ra)は0.4μm以上であり、そして、マスクは金属またはゴム状弾性体からなることを特徴とする。

請求項（抜粋）：

飛散源からの飛散粒子によりマスクを介して素体表面に所定パターンの被覆を形成するための薄膜形成用マスクにおいて、前記薄膜形成用マスクの表面を粗くしたことを特徴とする薄膜形成用マスク。

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