特許

J-GLOBAL ID：200903030866300501

紫外線吸収膜

発明者： 芹田 功 ,  堀越 創一郎 ,  川井 博
出願人/特許権者： 岩崎電気株式会社 ,  株式会社幸和クリエイター
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-339403
公開番号（公開出願番号）：特開平5-152213
出願日： 1991年11月29日
公開日（公表日）： 1993年06月18日
要約：

【要約】【目的】高温高湿の環境下で長期間の使用に耐える紫外線吸収膜を提供する。【構成】CVD法にて、酸化チタン、窒化珪素若しくは酸化亜鉛の少なくとも一種にて紫外線吸収膜を形成する。

請求項（抜粋）：

CVD法にて、酸化チタン(TiO2)、窒化珪素(SiN)、若しくは酸化亜鉛(ZnO)の少なくとも一種にて膜を形成したことを特徴とする紫外線吸収膜。

IPC (3件)：

H01L 21/205 ,  C30B 29/16 ,  C30B 29/38