ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-306682
公開番号（公開出願番号）：特開平8-160614
出願日： 1994年12月09日
公開日（公表日）： 1996年06月21日
要約：

【要約】【目的】高解像力、広いデフォーカスラチチュードを保ちつつ、しかも感度のロスなしに、特に広い現像ラチチュード、高い耐熱性を有するポジ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 (A)m-クレゾール及び2種の特定のフェノール類と、アルデヒド類とを縮合させて得られるアルカリ可溶性ノボラック樹脂であって、重量平均分子量と数平均分子量の比が1.5〜4.0であるアルカリ可溶性ノボラック樹脂(B)1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステル感光剤、(C)1分子中の総炭素数が12〜50で、且つ、1分子中に2〜8個のフェノール性水酸基を有する低分子化合物を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)下記(a)、(b)、(c)からなるフェノール類と、アルデヒド類とを縮合させて得られるアルカリ可溶性ノボラック樹脂であって、重量平均分子量と数平均分子量の比が1.5〜4.0であるアルカリ可溶性ノボラック樹脂(a)m-クレゾール 30〜90モル%(b)下記一般式(I)で表されるフェノール類 5〜40モル%(c)下記一般式(II)、(III)より選ばれるフェノール類 0〜40モル%【化1】【化2】【化3】(B)1,2-ナフトキノンジアジド-5-(及び/又は-4-)スルホン酸エステル感光剤(ノボラック樹脂100重量部に対し30重量部を越え100重量部未満)(C)1分子中の総炭素数が12〜50で、且つ、1分子中に2〜8個のフェノール性水酸基を有する低分子化合物(ノボラック樹脂100重量部に対し20重量部を越え、60重量部未満)を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/023 511 , G03F 7/022 , G03F 7/039 501 , H01L 21/027

引用特許：

審査官引用 (4件)

特開平4-122938
特開平2-226250
特開平3-054565

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