特許

J-GLOBAL ID：200903030878897430

研磨ヘッド、エッジリテイナの使用方法及びこのエッジリテイナを使用するための装置

発明者： ノーム・シェンドン ,  ケニス・シー・ストルヴェン ,  ロバート・ジェイ・コレンカウ
出願人/特許権者： サイベック・システムズ
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-340788
公開番号（公開出願番号）：特開平6-079618
出願日： 1992年12月21日
公開日（公表日）： 1994年03月22日
要約：

【要約】【構成】 ウエーハを保持するリテイナが、研磨作業の間フローティングし、なおかつ、ウエーハキャリヤを超えて突出してウエーハを収容するポケットを画成する。また、キャリヤがリテイナを超えて選択的に突出する。ヘッドにおいては、正の空気圧を用いてウエーハを研磨パッドに押し付ける。また、ヘッドには上述した状態を形成するための機械構造干渉手段が設けられている。【効果】 ウエーハ交換を容易にするとともに、ウエーハ保持のためのインサート等を交換する際にキャリヤへのアクセスが容易になる。

請求項（抜粋）：

ウエーハの表面を研磨盤面と接触させる動作を含む方法によって、半導体ウエーハの表面を研磨するための、半導体ウエーハを位置決めする研磨ヘッドであって、(a)ウエーハのためのキャリヤと、(b)上記ウエーハの表面を研磨している間、研磨盤面とウエーハの表面の接触によってウエーハに作用する横方向の力に抵抗するためのリテイナであって、上記表面が研磨されている間、ウエーハと上記研磨盤面を接触位置に保つためのリテイナ及び(c)上記キャリヤと上記リテイナを、このウエーハ表面が研磨されている間はリテイナがウエーハの表面上をフローティングすることを許容するとともに、リテイナをキャリヤよりも突出させてウエーハのためのポケットを形成してウエーハをキャリヤに取り付けることができるように連結するコネクタとを有することを特徴とする研磨ヘッド。

IPC (2件)：

B24B 37/04 ,  H01L 21/304 321