特許
J-GLOBAL ID：200903030880090455
光学薄膜成膜装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大西 正悟
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-306691
公開番号（公開出願番号）：特開平11-140642
出願日： 1997年11月10日
公開日（公表日）： 1999年05月25日
要約：
【要約】【課題】 曲率の大きなレンズの場合においても膜厚むらを小さく抑えることができるような光学薄膜成膜装置を得る。【解決手段】 成膜室11内に、レンズLを支持して公転もしくは自公転運動させる素子支持機構、薄膜形成用の蒸着粒子を発生させる蒸着源12およびレンズLと蒸着源12との間に配設されて蒸発粒子の付着むらを調整する蒸着粒子通過口を有した補正板15を有して光学薄膜成膜装置10が構成される。このとき、補正板15の蒸着粒子通過口15aが、素子支持機構に支持されたレンズLの表面三次元形状、および公転軌道位置と蒸着源12との三次元位置関係に基づいて、レンズLの表面の成膜厚さを均一化するために最適な形状に形成されている。
請求項（抜粋）：
密閉可能に形成された成膜室内に、光学素子を支持するとともにこの光学素子を公転もしくは自公転運動させる素子支持部、光学素子の表面に薄膜を形成させるための蒸着粒子を発生させる蒸着源、および前記素子支持部に支持された光学素子と前記蒸着源との間に配設されて前記光学素子表面への蒸着粒子の付着むらを調整する補正板を有して構成され、この補正板が、前記素子支持部に支持された光学素子の表面三次元形状、および前記素子支持部に支持された光学素子の公転軌道位置と前記蒸着源との三次元位置関係に基づいて、前記光学素子表面の成膜厚さを均一化するために最適な形状の蒸着粒子通過口を有していることを特徴とする光学薄膜成膜装置。
IPC (3件)：
C23C 14/50
, C23C 14/24
, G02B 1/11
C23C 14/50 G
, C23C 14/24 T
, G02B 1/10 A
