特許

J-GLOBAL ID：200903030894953570

ポリシランの製造方法

発明者： 児嶋 啓之 ,  上野 秀樹 ,  三島 隆之 ,  柿本 正也
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (1件)： 青山 葆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-171383
公開番号（公開出願番号）：特開平7-026021
出願日： 1993年07月12日
公開日（公表日）： 1995年01月27日
要約：

【要約】【目的】 高分子量のポリシランを容易に収率良く合成することができるポリシランの製造方法を提供する。【構成】 ジハロシランをアルカリ金属の存在下に反応させてポリシランを製造する方法において、ジハロシランを両末端エーテル型ポリエチレングリコール存在下で反応させることを特徴とするポリシランの製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式:【化1】[式中、R1およびR2は、同一または相異なって、水素原子または炭化水素基を表し、Xはハロゲン原子を表す。]で示されるジハロシランをアルカリ金属の存在下に反応させて一般式:【化2】[式中、R1およびR2は上記と同意義であり、nは2以上の整数である。]で示されるポリシランを製造する方法において、上記ジハロシランを一般式:R3O(CH2CH2O)mR4 (3)[式中、R3およびR4は、同一または相異なって、炭化水素基を表し、mは2以上の整数である。]で示されるポリエチレングリコールの存在下で反応させることを特徴とするポリシランの製造方法。