特許
J-GLOBAL ID：200903030895934250
酸化チタンの製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
久保山 隆
, 中山 亨
, 榎本 雅之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-025332
公開番号（公開出願番号）：特開2004-250325
出願日： 2004年02月02日
公開日（公表日）： 2004年09月09日
要約：
【課題】 光触媒活性を示し、かつ粒子径分布の小さい酸化チタンの製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の製造方法では、チタン化合物(硫酸チタン、オキシ硫酸チタン、三塩化チタン、四塩化チタン、オキシ塩化チタン、四臭化チタン、テトラアルコキシチタン、チタンキレート化合物など)の溶液を、このチタン化合物を加水分解させることなく60°C以上に加熱したのち、60°C以上の温度で、このチタン化合物に塩基(アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、アミンなど)を反応させ、得られた生成物を焼成して、酸化チタンを製造する。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
60°C以上にて、加水分解物を含まないチタン化合物の溶液に塩基を反応させ、得られた生成物を焼成することを特徴とする酸化チタンの製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (4件)：
4G047CA02
, 4G047CB05
, 4G047CC03
, 4G047CD03
