特許
J-GLOBAL ID:200903030896207360

電解プロセスにおける酸素発生用アノ-ド

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 社本 一夫 (外5名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-277832
公開番号(公開出願番号):特開2000-110000
出願日: 1999年09月30日
公開日(公表日): 2000年04月18日
要約:
【要約】【課題】 本発明は、電解プロセスにおける酸素発生用アノードを提供する。【解決手段】 亜鉛、銅、ニッケル、およびコバルトを生成させるための電気冶金学的プロセスにおいて、またクロム、ニッケル、および貴金属を付着させるための化学電気的プロセスにおいて、マンガンの存在下にて硫酸または硫酸塩を含有する電解質から酸素を発生させるためのアノードとして使用するのに適した新規タイプの電極が説明されている。本発明のアノードは、酸化イリジウムと酸化ビスマスで造られた酸素発生用の電気触媒被膜を備えたチタン支持体を含む。本発明の他の実施態様においては、被膜は、第IVA族、第VA族、および第VB族の元素(特に、スズおよび/またはアンチモン)から選ばれるドーピング剤を含む。
請求項(抜粋):
カソードに付着させようとする硫酸および/または金属硫酸塩、多量のマンガン、ならびに必要に応じて5ppm未満という限定量のフッ化物を含有する電解質中にて行われる電解プロセスにおける酸素発生用アノードであって、電気触媒被膜を有するチタン支持体を含み、このとき前記電気触媒被膜がイリジウムおよびビスマスの酸化物をベースとしていることを特徴とする、前記酸素発生用アノード。
IPC (2件):
C25D 17/10 101 ,  C25C 7/02 306
FI (2件):
C25D 17/10 101 A ,  C25C 7/02 306

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