特許
J-GLOBAL ID：200903030896314280
脱ガス装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
浅井 章弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-161024
公開番号（公開出願番号）：特開平5-006860
出願日： 1991年06月05日
公開日（公表日）： 1993年01月14日
要約：
【要約】【目的】 被処理体の表面に吸着したガスの放出を促進させる。【構成】 被処理体4が収容された真空の筐体9の上方に、エネルギ線Lを放射する活性化手段14を設け、被処理体4の表面に吸着するガスを活性化して放出させる。この被処理体4の真上に、放出されたガスをトラップするために冷却されたガストラップ手段16を設けると共に、この材料を上記エネルギ線Lの透過材料により構成する。
請求項（抜粋）：
被処理体の表面に照射されて吸着ガスを放出させるためのエネルギ線を放射する活性化手段と、前記エネルギ線を透過する材料よりなると共に、前記被処理体の表面に接近させて設けられ、前記被処理体から放出されるガスをトラップするためのガストラップ手段とを備えたことを特徴とする脱ガス装置。
IPC (3件)：
H01L 21/205
, H01L 21/302
, B08B 7/00
