特許
J-GLOBAL ID:200903030898671927

ピストンリングおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 岡部 健一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平6-338635
公開番号(公開出願番号):特開平8-184375
出願日: 1994年12月29日
公開日(公表日): 1996年07月16日
要約:
【要約】【目的】 初期なじみ性に優れるとともに、耐スカッフ性も良好な皮膜を有しているピストンリングを提供する。【構成】 ピストンリング1の外周面に膜厚が1〜15μmの皮膜4をPVD法により被覆する。皮膜4はMoおよびCrのいずれかまたは両方で98.0〜99.5重量%、残Nからなり、皮膜硬さがビッカース硬さ300〜800で、結晶粒径が1μm未満である。皮膜4の内側には窒化層2または硬質のPVD皮膜3が形成されている。
請求項(抜粋):
外周面に膜厚が1〜15μmの皮膜が被覆されており、前記皮膜がMoおよびCrのいずれかまたは両方で98.0〜99.5重量%、残Nからなり、皮膜硬さがビッカース硬さ300〜800で、結晶粒径が1μm未満であることを特徴とするピストンリング。
IPC (3件):
F16J 9/26 ,  C23C 14/14 ,  F02F 5/00

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