表面を入念に洗浄するための方法と装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：中島淳 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-511386
公開番号（公開出願番号）：特表平10-507683
出願日： 1995年09月28日
公開日（公表日）： 1998年07月28日
要約：

【要約】本発明は、汚染した表面(24)を水蒸気で入念に洗浄するための方法と装置に関する。蒸気ノズル(1)は表面(24)のすぐ近くに置かれ、ノズル(1)から蒸気(16)が洗浄すべき表面(24)に適切に案内される。

請求項（抜粋）：

汚染した表面(24)を水蒸気(16)で入念に洗浄するための方法において、少なくとも1個の蒸気ノズル(1)を表面(24)のすぐ近くに置き、ノズル(1)から蒸気(16)を洗浄すべき表面(24)に適切に案内し、蒸気(16)の噴霧と同時にあるいは噴霧の前に、洗浄すべき表面(24)を水(18)で湿らせることを特徴とする方法。

IPC (3件)：

B08B 3/02 , H01L 21/304 341 , H01L 21/304 351

FI (3件)：

B08B 3/02 A , H01L 21/304 341 V , H01L 21/304 351 V

引用特許：

出願人引用 (5件)

特開昭59-215729
特開平4-305927
特開昭59-184530

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審査官引用 (5件)

特開昭59-215729
特開平4-305927
特開昭59-184530

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