特許
J-GLOBAL ID:200903030902629760

フォトレジスト現像装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 菅野 中
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-133195
公開番号(公開出願番号):特開平8-330210
出願日: 1995年05月31日
公開日(公表日): 1996年12月13日
要約:
【要約】【目的】 基板のフォトレジストに滴下される現像液の液量を調整して現像液薄液層の層厚を制御する。【構成】 ウエハ1を回転させながら現像液ノズル3より現像液を滴下する。このとき現像液は、回転による遠心力と表面張力とのバランスを保ちながらウエハ1面に拡がり、薄液層7を形成する。ノズルホルダー5により保持された吸引ノズル8を現像液の薄液層7に浸入させ、真空により現像液を吸い上げて、薄液層7の厚味を規定の厚さに制御する。
請求項(抜粋):
スピンチャックと、現像ノズルと、吸引ノズルとを有し、露光される基板面を現像するフォトレジスト現像装置であって、スピンチャックは、露光処理された基板を保持して、該基板を回転させるものであり、現像ノズルは、前記スピンチャックに保持された基板の露光面に現像液を滴下するものであり、吸引ノズルは、前記基板の露光面に滴下された現像液の液量を調整し、該露光面上に形成される薄液層の厚味を制御するものであることを特徴とするフォトレジスト現像装置。
IPC (3件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/20 521
FI (3件):
H01L 21/30 569 C ,  G03F 7/16 502 ,  G03F 7/20 521

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