粒子ビーム検査装置および検査方法並びに粒子ビーム応用装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小川勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-193575
公開番号（公開出願番号）：特開平11-040096
出願日： 1997年07月18日
公開日（公表日）： 1999年02月12日
要約：

【要約】【課題】本発明の課題は、高スループットの粒子線ビーム検査装置を提供することにある。【解決手段】上記の課題は、図1に示す電子ビーム測長装置において、焦点ずれ演算器60によって試料像のフーリエスペクトルから焦点ずれ量に対応する特徴周波数を求め、ビーム分布発生器61でその特徴周波数に対応する焦点ずれビーム分布関数を生成し、デコンボリューション演算器51によって一次元像メモリ71に記憶された試料像から前記焦点ずれビーム分布関数の成分を除去し、得られた試料像に対して測長演算器72で寸法測定を行うことで解決される。【効果】本発明によれば、粒子ビーム走査による焦点合わせ時間をはぶけるので、半導体素子等の寸法や外観異常の検査時間を短縮できる効果がある。

請求項（抜粋）：

粒子線ビームを試料上で走査して試料像を得る手段と、該試料像を演算処理する試料検査手段とを備えた粒子線ビーム検査装置において、該試料像から焦点ずれ量を検出する手段と、該焦点ずれ量から粒子線ビームの広がりに相当する焦点ずれビーム分布関数を生成する手段と、該試料像またはその一部に対して該焦点ずれビーム分布関数の成分を除去または低減した分離像を生成する手段とを備え、上記試料検査手段により該分離像を演算処理することを特徴とする粒子線ビーム検査装置。

IPC (3件)：

H01J 37/21 , G01B 15/00 , H01J 37/22 502

FI (3件)：

H01J 37/21 B , G01B 15/00 B , H01J 37/22 502 A

引用特許：

審査官引用 (12件)

特開平4-341741
特開平1-204342
表面分析方法および装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-073941 出願人：株式会社日立製作所

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