特許

J-GLOBAL ID：200903030908735708

暗渠形成方法及びその装置

発明者： 川村 興作
出願人/特許権者： 中央ガス株式会社
代理人 (1件)： 松井 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-303556
公開番号（公開出願番号）：特開平7-133609
出願日： 1993年11月09日
公開日（公表日）： 1995年05月23日
要約：

【要約】【目的】 疎水用溝及び管の引込み用穿孔を崩すことなく、疎水用溝の切開によって盛り上がった土表面を均すことができるようにした暗渠形成方法及びその装置を提供する。【構成】 土掻き部材19により土表面を掘削し、その溝に沿って立板21により疎水用溝を切開するとともに、立板21の下端に配置された穿孔用弾丸23で引込み用穿孔を形成する。それと同時に、立板21の両側であって穿孔用弾丸23の真上に位置する土表面をローラ26で転圧する。こうして形成された真円に近い穿孔に管24を引込み、疎水材充填装置28によって疎水用溝に疎水材を充填する。

請求項（抜粋）：

土掻き部材によって土壌表面を筋状に掘削する工程と、この溝に沿って土壌を立板で切開して疎水用溝を形成するとともに、この立板の下端に取付けられた穿孔用弾丸によって上記疎水用溝の底端に引込み用穿孔を形成する工程と、上記穿孔用弾丸に連結された管を上記引込み用穿孔に引込む工程と、上記疎水用溝に疎水材を充填する工程とを含む暗渠形成方法において、上記疎水用溝及び上記引込み用穿孔の形成時に、上記立板の両側であって上記穿孔用弾丸の真上に位置する土壌表面を、ローラによって転圧することを特徴とする暗渠形成方法。