特許

J-GLOBAL ID：200903030915611747

物体の絶対座標を探知する方法および装置

発明者： ハンス シュタインビッヒレル
出願人/特許権者： ハンス シュタインビッヒレル
代理人 (1件)： 中村 稔 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-258448
公開番号（公開出願番号）：特開平5-203414
出願日： 1992年09月28日
公開日（公表日）： 1993年08月10日
要約：

【要約】【目的】 物体の絶対座標を簡単に探知する方法および装置を提供することを目的とする。【構成】 物体の絶対座標を探知する装置を使用する。この装置は光源(6)と、投射光学系、詳細には、投射対物レンズ(7)と、投射光学系(7)を通して物体(1)上に投射されて像を形成する投射格子(2)と、物体(1)から反射された光(4)を受光するセンサ(5)と、物体(1)から反射された光(4)をセンサ(5)上に投射する対物レンズ(8)とを有している。物体の絶対座標を簡単に定めることができるために、投射格子(2)および/またはセンサ(5)は回転可能である。投射格子(2)またはセンサ(5)の少なくとも2つの異なる角度位置でセンサ(5)の信号(ショットすなわち画像)を数値測定し、それから物体の絶対座標(信号図)を定める数値測定ユニットを設けてある。

請求項（抜粋）：

物体(1)を投射格子(2)を通して光(3)で照射し、物体(1)から反射された光(4)をセンサ(5)により受光し、センサ(5)の信号(ショットすなわち画像)を数値測定する、物体(1)の絶対座標を探知する方法において、投射格子(2)およびセンサ(5)の第1位置において、初めの像形成および数値測定を予め行い、引続き、投射格子(2)および/またはセンサ(5)を或る角度にわたって回転させ、センサ(5)の2回目の像形成および数値測定を予め行うことを特徴とする方法。

IPC (2件)：

G01B 11/00 ,  G01C 3/06

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-044107
  
• 特開平3-017507
  
• 特開昭63-044107
  
• 特開平3-017507