特許

J-GLOBAL ID：200903030926990782

光デイスクの複製方法

発明者： 佐藤 和洋
出願人/特許権者： 日本ビクター株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-211640
公開番号（公開出願番号）：特開平5-036119
出願日： 1991年07月29日
公開日（公表日）： 1993年02月12日
要約：

【要約】【目的】 気泡等に起因する欠陥の発生を抑制して生産性を向上させる。【構成】 放射線硬化樹脂を放射線透過性の基板14に形成し、これにスタンパを圧着して光ディスクを複製するに際して、非常に平滑な面を有するフレキシブルテープ18の表面に所定の形状の放射線硬化樹脂26をパターン印刷により形成し、この樹脂26を反転した状態で基板14上に転置することによりスタンパが当接すべき転写面を平滑に形成すると共に、これに放射線を照射して樹脂を半硬化させる。

請求項（抜粋）：

放射線硬化樹脂を放射線透過性の基板に形成し、前記放射線硬化樹脂の表面に予め情報が形成されたスタンパを圧着することにより光ディスクを複製する方法において、前記放射線硬化樹脂を平滑な面を有するフレキシブルテープ上にパターン印刷により形成する第1の工程と、前記パターン化された放射線硬化樹脂を前記基板上に転置すると共に、前記放射線硬化樹脂に放射線を照射する第2の工程とを有するように構成したことを特徴とする光ディスクの複製方法。