インクジェットヘッドの製造方法及びその方法で製造されたインクジェットヘッド

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小鍜治明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-191414
公開番号（公開出願番号）：特開平8-052881
出願日： 1994年08月15日
公開日（公表日）： 1996年02月27日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】作業性や生産性に優れたインクジェットヘッドの製造方法及びその方法で製造されたインクジェットヘッド。【構成】絶縁性基板1及び絶縁性基板1の上面に形成された一対の電極2の上面にインク流路及び圧力室の形状に第一のマスクを形成する第一マスク3形成工程と、第一のマスク3を除く絶縁性基板1及び一対の電極2の上面に第一の絶縁層4を形成する第一絶縁層形成工程と、第一のマスク3の上面にインク吐出孔の形状に第二のマスク5を形成する第二マスク5形成工程と、第二のマスク5を除く第一の絶縁層4の上面に第二の絶縁層6を形成する第二絶縁層6形成工程と、第一のマスク3及び第二のマスク5を除去するマスク除去工程と、を備えた構成を有している。

請求項（抜粋）：

絶縁性基板及び前記絶縁性基板の上面に形成された一対の電極の上面にインク流路及び圧力室の形状に第一のマスクを形成する第一マスク形成工程と、前記第一マスク形成工程で得られた前記第一のマスクを除く前記絶縁性基板及び前記一対の電極の上面に第一の絶縁層を形成する第一絶縁層形成工程と、前記第一マスク形成工程で得られた前記第一のマスクの上面にインク吐出孔の形状に第二のマスクを形成する第二マスク形成工程と、前記第二マスク形成工程で得られた前記第二のマスクを除く前記第一の絶縁層の上面に第二の絶縁層を形成する第二絶縁層形成工程と、前記第一のマスク及び前記第二のマスクを除去するマスク除去工程と、を備えたことを特徴とするインクジェットヘッドの製造方法。

IPC (3件)：

B41J 2/16 , B41J 2/045 , B41J 2/055

FI (2件)：

B41J 3/04 103 H , B41J 3/04 103 A

前のページに戻る