特許
J-GLOBAL ID:200903030931373872
非線形光学材料及びその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
吉田 勝広
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-056476
公開番号(公開出願番号):特開平5-224261
出願日: 1992年02月10日
公開日(公表日): 1993年09月03日
要約:
【要約】【目的】 より大きな非線形性を有し、且つ、高い量子収率が得られる非線形光学材料及びその製造方法を提供すること。【構成】 シリコン核の表面に酸化シリコン主体の絶縁層を有する超微粒子が設けられていることを特徴とする非線形光学材料及びその製造方法。
請求項(抜粋):
シリコン核の表面に酸化シリコン主体の絶縁層を有する超微粒子が設けられていることを特徴とする非線形光学材料。
引用特許:
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