特許

J-GLOBAL ID：200903030934086300

改良型レチクルライブラリの装置と方法

発明者： ケビン・ケー・ファンク
出願人/特許権者： ヒューレット・パッカード・カンパニー
代理人 (1件)： 古谷 馨 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-055602
公開番号（公開出願番号）：特開平11-317361
出願日： 1999年03月03日
公開日（公表日）： 1999年11月16日
要約：

【要約】【課題】 動作効率を高め且つ再加工及び廃棄事象を低減する、製造プロセスを提供する。【解決手段】 本願発明によれば、レチクルボックス(130、140)は、特定のウエハロットの操作に対する所望のレチクルの自動探索が可能であるように、ウエハステッパライブラリ(110、120)において機械走査可能である。ウエハステッパ(100)は、少なくとも幾つかのライブラリ(110、120)のスロット(112、122)に整列する複数の表示読取り装置(152、162)を包含し、各レチクルボックス(130、140)には、そのレチクル番号を表す表示が与えられる。

請求項（抜粋）：

アーティクルに対する製造ステップを実行するための処理システム(100)であって:複数のスロット(112、122)を含む少なくとも1つのライブラリ(110、120)と;前記アーティクルに対する前記製造ステップを実行する際に、前記処理システム100によって使用可能な少なくとも1つの用具(130、140)と、該少なくとも1つの用具(130、140)がその上に表示(132、142)を含み、且つ該少なくとも1つの用具(130、140)が前記複数のスロット(112、122)の中の1つの内部に配置されることと;前記複数のスロット(112、122)の少なくとも幾つかと整列する複数の読取り装置(152、162)と、該複数の読取り装置(152、162)の少なくとも1つが、前記少なくとも1つの用具の表示(132、142)と読取り関係にあることからなることを特徴とする処理システム。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 1/14

FI (2件)：

H01L 21/30 503 E ,  G03F 1/14 M