特許

J-GLOBAL ID：200903030961811122

高分子分散型液晶表示素子の製造方法

発明者： 山田 信明 ,  倉立 知明 ,  神崎 修一
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-315419
公開番号（公開出願番号）：特開平6-160817
出願日： 1992年11月25日
公開日（公表日）： 1994年06月07日
要約：

【要約】【目的】 高分子中における液晶の配向処理が可能で、しかも液晶と高分子との間の散乱強度を抑制し得る高分子分散型液晶表示素子およびその製造方法を提供する。【構成】 一対の基板1、2が対向配設されると共に、両基板1、2間に高分子壁7で包囲された複数の液晶滴8の各々が1または隣接する複数の絵素12に対して形成され、かつ少なくとも一方の基板1、2の液晶滴8側には配向膜5、6が形成された高分子分散型液晶表示素子の製造方法において、2つの基板1、2の少なくとも一方の片面に光または熱重合開始剤を含む薄膜パターン9、10を高分子壁7形成部分に形成する工程と、2つの基板1、2を、薄膜パターン9、10形成面を内側に配し、かつ間隙を設けて対向させる工程と、間隙に液晶と光または熱重合性化合物とからなる混合材料を注入する工程と、重合開始剤および混合材料に対し、光を照射するかまたは熱を加えることにより光または熱重合性化合物を硬化させる工程とを含む。

請求項（抜粋）：

一対の基板が対向配設されると共に、両基板間に高分子壁で包囲された複数の液晶滴の各々が1または隣接する複数の絵素に対して形成され、かつ少なくとも一方の基板の液晶滴側には配向膜が形成された高分子分散型液晶表示素子の製造方法において、2つの基板の少なくとも一方の片面に光または熱重合開始剤を含む薄膜パターンを高分子壁形成部分に形成する工程と、2つの基板を、該薄膜パターン形成面を内側に配し、かつ間隙を設けて対向させる工程と、該間隙に液晶と光または熱重合性化合物とからなる混合材料を注入する工程と、該重合開始剤および混合材料に対し、光を照射するかまたは熱を加えることにより光または熱重合性化合物を硬化させる工程とを含む高分子分散型液晶表示素子の製造方法。