特許
J-GLOBAL ID：200903030963022630
金属材料の表面にフィルムラミネート用下地皮膜を形成させた被覆金属材料、およびその製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
坂口 昇造
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-219282
公開番号（公開出願番号）：特開平10-046101
出願日： 1996年08月01日
公開日（公表日）： 1998年02月17日
要約：
【要約】【課題】 金属材料の表面にフィルムラミネート用下地皮膜を形成させた被覆金属材料において、成形性、耐食性、ラミネートフィルム密着性および環境安全性に優れた被覆金属材料、およびその製造方法の提供。【解決手段】 金属材料の表面にフィルムラミネート用下地皮膜を形成させた被覆金属材料であって、皮膜が特定構造単位よりなるフェノール、ナフトールもしくはビスフェノール-ホルムアルデヒド樹脂からなり、皮膜厚が5〜500nmであり、皮膜の全付着量が炭素として5〜500mg/m2であり、かつ該皮膜が金属材料表面の90%以上を被覆している該被覆金属材料、およびその製造方法。
請求項（抜粋）：
金属材料の表面にフィルムラミネート用下地皮膜を形成させた被覆金属材料であって、皮膜が下記式(I)で示される構造単位よりなる重合体からなり、皮膜厚が5〜500nmであり、皮膜の全付着量が炭素として5〜500mg/m2であり、かつ該皮膜が金属材料表面の90%以上を被覆している該被覆金属材料:【化1】[式中、X1はそれぞれの構成単位において独立に水素原子または下記式(II)【化2】(式中、R1およびR2は、互いに独立に、水素原子、C1〜C10のアルキル基またはC1〜C10のヒドロキシアルキル基を表す)で表されるZ1基を表し、Y1およびY2は、Y1が水素原子、水酸基、C1〜C5のアルキル基、C1〜C5のヒドロキシアルキル基、C6〜C12のアリール基、ベンジル基または下記式(III)【化3】(式中、R3およびR4は、互いに独立に、水素原子、C1〜C10のアルキル基、またはC1〜C10のヒドロキシアルキル基を表し、X2は、Y1が上記式(III)で表される基である場合、式(I)で表されるそれぞれの構成単位において独立に水素原子または下記式(IV)【化4】(式中、R5およびR6は、互いに独立に、水素原子、C1〜C10のアルキル基、またはC1〜C10のヒドロキシアルキル基を表す)で表されるZ2基を表す)で表される基を表し、Y2が水素原子を表すか、またはY1とY1に隣接する位置に存在する場合のY2がY1とY2との間の結合も含めて一体となって縮合ベンゼン環を表し、ここにおいて、Z1基+Z2基の導入率はベンゼン環1個あたり0.2〜1.0個である]。
IPC (2件)：
C09D161/08 PHE
, C23C 22/07
C09D161/08 PHE
, C23C 22/07
