特許

J-GLOBAL ID：200903030964060268

水素の発生を制御するためのシステム及び方法

発明者： スパルローン、ジョン ,  モーリング、リチャード、エム. ,  イーソン、イアン ,  モルター、ロバート ,  ベリー、グラント ,  フェニモア、キース、エー.
出願人/特許権者： ミレニアム セル インコーポレイテッド
代理人 (4件)： 浅村 皓 ,  浅村 肇 ,  田中 正 ,  森 徹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-553254
公開番号（公開出願番号）：特表2008-528430
出願日： 2006年01月27日
公開日（公表日）： 2008年07月31日
要約：

水素発生システムの少なくとも2つのシステム・パラメータ(システム温度又は圧力、或いは2つの異なる位置におけるシステム圧力など)を監視し、且つ、燃料溶液からの水素の発生を制御するためのシステム及び方法が開示される。システムは、液体燃料のための燃料室と、燃料の反応によって水素が生成されるリアクタ室と、リアクタ室と連絡している少なくとも2つのセンサとを有する水素発生器を備えている。センサによって水素発生器の少なくとも2つのパラメータが測定される。開示される方法には、知覚したパラメータに基づいてリアクタへの燃料流量を制御するための制御シーケンスが含まれている。

請求項（抜粋）：

燃料を含有した燃料室及びリアクタを有する水素発生システムにおける水素の発生を制御するための方法であって、 少なくとも1つのシステム・パラメータを検出するステップと、 検出した少なくとも1つのシステム・パラメータに基づいて、前記燃料室から前記リアクタへの前記燃料の流れを制御するステップと を含み、前記少なくとも1つのシステム・パラメータが、システム温度であるか、或いは前記リアクタに対して第1の位置で測定される第1の圧力、前記リアクタに対して第2の位置で測定される第2の圧力及び前記システム内の温度からなるグループから選択される少なくとも2つのシステム・パラメータである方法。

IPC (3件)：

C01B 3/08 ,  C01B 3/06 ,  C01B 3/38

FI (3件)：

C01B3/08 A ,  C01B3/06 ,  C01B3/38

Fターム (5件)：

4G140EA02 ,  4G140EA06 ,  4G140EB43 ,  5H027AA02 ,  5H027BA14