特許

J-GLOBAL ID：200903030967798730

有機整流素子

発明者： 上原 赫 ,  杉本 晃 ,  井上 博夫 ,  北野 尚男
出願人/特許権者： 日本写真印刷株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-089993
公開番号（公開出願番号）：特開平5-259434
出願日： 1992年03月13日
公開日（公表日）： 1993年10月08日
要約：

【要約】【目的】 優れた整流作用を有する有機整流素子。【構成】 ガラス基板1上に金電極2をスパッタ法等により形成させ、その上に電解酸化重合によってポリ-3-メチルチオフェン層を積層させる。次いで電機化学的に脱ドーピング処理して高分子導電体層3とし、5-メチル-10-(p-メチルベンジル)-5,10-ジヒドロフェナジン膜4を真空蒸着法により積層し、その上にアルミニウムを真空蒸着して電極5を形成させ、有機整流素子とする。

請求項（抜粋）：

5-(電子供与性基)置換-10-(アラルキルまたは核置換アラルキル)-5,10-ジヒドロフェナジン膜と高分子導電体材料層または金属系材料層とが積層されていることを特徴とする有機整流素子。

IPC (2件)：

H01L 29/28 ,  H01L 31/04