特許
J-GLOBAL ID:200903030973020287

残留塩素濃度の管理方法、超純水の製造方法および注入塩素濃度の管理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 須山 佐一
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-190112
公開番号(公開出願番号):特開2004-033800
出願日: 2002年06月28日
公開日(公表日): 2004年02月05日
要約:
【課題】安価で信頼性が高く、残留塩素濃度のみならず、還元剤の注入量も正確に測定し得る残留塩素濃度の管理方法、超純水の製造方法および、さらに加えて逆浸透膜装置の性能をも判定可能な超純水の製造装置、ならびに安価で信頼性が高く、残留塩素濃度を正確に測定し得る注入塩素濃度の管理方法を提供すること。【解決手段】例えば、逆浸透膜装置への供給水となる微量の塩素を含む供給水が流れる配管1に、薬液タンク4中の還元剤を注入して流水中の塩素を還元し、その酸化還元電位を酸化還元電位計で測定して、その測定値又はその変化から還元剤の注入状況を判定する。逆浸透膜装置の透過水の酸化還元電位を測定して、供給水の酸化還元電位と逆浸透膜装置の透過水の酸化還元電位から、還元剤の注入状況を判定することもできる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
塩素を含む流水中に還元剤を注入して流水中の塩素を還元する還元工程と、 還元剤の注入された前記流水の酸化還元電位を測定する酸化還元電位測定工程と、 測定された酸化還元電位の測定値又はその変化から還元剤の注入状況を判定する判定工程と を有することを特徴とする残留塩素濃度の管理方法。
IPC (5件):
C02F1/70 ,  B01D61/04 ,  C02F1/44 ,  G01N27/26 ,  G01N27/416
FI (5件):
C02F1/70 Z ,  B01D61/04 ,  C02F1/44 J ,  G01N27/26 361G ,  G01N27/46 341M
Fターム (13件):
4D006GA03 ,  4D006KA01 ,  4D006KB30 ,  4D006KE30P ,  4D006PB02 ,  4D006PC02 ,  4D050AA05 ,  4D050AB45 ,  4D050BA04 ,  4D050BA06 ,  4D050BD06 ,  4D050BD08 ,  4D050CA09

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