特許
J-GLOBAL ID：200903030974585237
研削剤
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小宮 良雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-263932
公開番号（公開出願番号）：特開平10-110183
出願日： 1996年10月04日
公開日（公表日）： 1998年04月28日
要約：
【要約】【課題】 潤滑性、安定性、洗浄性、研削性、耐腐敗性に優れ、長期に渡って循環使用しても性能低下が少なく、希釈する水質の影響を殆ど受けない研削剤、研削剤組成物および研削加工方法を提供する。【解決手段】 研削剤は、非イオン界面活性剤を水に溶解した研削剤において、研削剤の曇点が研削剤を使用する温度以下であり、その曇点が10〜60°Cであることが好ましい。前記研削剤を調製するための研削剤組成物は、30〜80°Cの曇点を持つポリオキシプロピレンポリオキシエチレンブロック重合体界面活性剤の少なくとも一種類と、10〜30°Cの曇点を持つ直鎖型非イオン界面活性剤とからなる。前記研削剤を使用した研削加工方法は、研削剤をその曇点以上の温度に管理しながら、加工位置に循環供給する。
請求項（抜粋）：
非イオン界面活性剤を水に溶解した研削剤において、該研削剤の曇点が該研削剤を使用する温度以下であることを特徴とする研削剤。
IPC (5件)：
C10M173/02
, B24B 37/00
, C09K 3/14 550
, C10N 20:00
, C10N 40:22
C10M173/02
, B24B 37/00 H
, C09K 3/14 550 Z
