薄膜形成装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山本惠二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-326122
公開番号（公開出願番号）：特開平7-150340
出願日： 1993年11月29日
公開日（公表日）： 1995年06月13日
要約：

【要約】【目的】アーク式蒸発源から発生する蒸発粒子に含まれている粗大粒子が基材に入射することを防止する薄膜形成装置を提供する。【構成】アーク式蒸発源14から発生して直進する蒸発粒子が、ホルダ6に保持された基材4に入射しないように、アーク式蒸発源14とホルダ6とを配置した。かつ、真空容器2の両側面の外部に一組の電磁石を設け、これによって、アーク式蒸発源14から発生する蒸発粒子18の進路上に垂直に磁界Bをかけるようにした。その結果、蒸発粒子18に含まれているイオン化した粒子は、それが磁界B中を運動するときに受けるローレンツ力によって、ホルダ6に保持された基材4の方へ曲げられる。これによって、蒸発粒子18に含まれているイオン化粒子のみを選択的に基材4に入射させることができる。

請求項（抜粋）：

真空容器と、この真空容器内に設けられていて基材を保持するホルダと、アーク放電によってカソードを局部的に溶解させて蒸発粒子を発生させるアーク式蒸発源とを備え、このアーク式蒸発源から発生させた蒸発粒子を、ホルダに保持された基材に入射させて当該基材の表面に薄膜を形成するように構成した薄膜形成装置において、アーク式蒸発源から発生して直進する蒸発粒子がホルダに保持された基材に入射しないように、アーク式蒸発源とホルダとを配置し、かつ、アーク式蒸発源から発生する蒸発粒子の進路上に磁界をかけて、当該蒸発粒子に含まれているイオン化粒子を選択的にホルダ上の基材に導く磁界発生手段を設けたことを特徴とする薄膜形成装置。

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