特許

J-GLOBAL ID：200903030992908175

レジスト組成物の製造方法及びレジスト組成物

発明者： 花元 幸夫 ,  高垣 宏 ,  井田 綾子
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-347752
公開番号（公開出願番号）：特開平5-307263
出願日： 1992年12月28日
公開日（公表日）： 1993年11月19日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 製造直後において比較的大きい非溶解粒子が少なく、且つ長期保存後においても非溶解粒子の増加が少ないレジスト組成物の製造方法を提供する。【構成】 アルカリ可溶性樹脂、感放射線性化合物及び溶剤の混合物を孔径0.1μm以下であり、且つ、除粒子性能が99%以上であるフィルターを用いて濾過することを特徴とするレジスト組成物の製造方法であり、又、アルカリ可溶性樹脂、感放射線性化合物並びに分子内にアセトキシ基及びアルコキシ基を双方同時に有さない有機溶剤を含有するレジスト組成物において、該組成物中、0.25μm以上の粒子径を有する非溶解粒子の含量が1ml中100 個以下であり、且つその非溶解粒子は各々0.25〜0.3 μmの粒子径及び0.3 μmよりも大きい粒子径を有する2つの粒子群から構成され、0.25〜0.3 μmの粒子径の粒子群含量が1ml中50個以下であることを特徴とするレジスト組成物である。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性樹脂、感放射線性化合物及び有機溶剤を含む混合物を孔径0.1μm以下で、且つ、除粒子性能が99%以上であるフィルターを用いて濾過することを特徴とするレジスト組成物の製造方法。

IPC (4件)：

G03F 7/039 501 ,  G03F 7/004 501 ,  G03F 7/022 ,  H01L 21/027