特許
J-GLOBAL ID：200903031003397651
キノフタロン系スルホン酸誘導体及びそれを含有する顔料分散物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
安富 康男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-382998
公開番号（公開出願番号）：特開2003-183533
出願日： 2001年12月17日
公開日（公表日）： 2003年07月03日
要約：
【要約】【課題】 キノフタロン系顔料を微細かつ安定的に分散させることができる化合物を提供し、更にはその化合物を用いて、キノフタロン系顔料を微細かつ安定的に分散させることにより、高い発色性と良好な流動性等を有する顔料分散物を提供する。【解決手段】 遊離酸の形態で表したときに、下記式(1)に相当する構造となることを特徴とするキノフタロン系スルホン酸誘導体。【化1】式中、R1及びR2は互いに独立に、それぞれ、炭化水素基若しくは炭化水素基以外の基で置換されていてもよい炭素数20以下の脂肪族又は芳香族炭化水素の基を表すか、又は、両者が結合し、更にR1及び/又はR2の中に窒素、酸素及び硫黄から選ばれるヘテロ原子を含んでもよい複素環構造を表す。Xは、水素原子又はハロゲン原子を表す。kは、1〜6の整数、mは、0.5以上、そしてnは、0以上の数を表し、m+nは、1以上である。
請求項（抜粋）：
遊離酸の形態で表したときに、下記式(1)に相当する構造となることを特徴とするキノフタロン系スルホン酸誘導体。【化1】式中、R1及びR2は互いに独立に、それぞれ、炭化水素基若しくは炭化水素基以外の基で置換されていてもよい炭素数20以下の脂肪族又は芳香族炭化水素の基を表すか、又は、両者が結合し、更にR1及び/又はR2の中に窒素、酸素及び硫黄から選ばれるヘテロ原子を含んでもよい複素環構造を表す。Xは、水素原子又はハロゲン原子を表す。kは、1〜6の整数、mは、0.5以上、そしてnは、0以上の数を表し、m+nは、1以上である。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C09B 25/00 B
, C09B 67/46 A
